設備名稱
設備位置
管理人
電子束微影系統📎
卓越研究大樓2F無塵室 精密微影區
蔡家揚 博士
步進式曝光系統
江至皓 博士
電漿輔助原子層沉積系統📎
卓越研究大樓2F無塵室 CVD區
加熱式原子層沉積系統📎
電漿輔助化學氣相沉積系統📎
超高真空濺鍍系統📎
卓越研究大樓2F無塵室 PVD區
超高真空電子束蒸鍍系統📎
感應耦合電漿蝕刻系統📎
卓越研究大樓2F無塵室 乾蝕刻區
半導體參數分析儀/真空探針台📎
卓越研究大樓2F無塵室 量測分析區
📎為重點設備，重點設備之委託操作與自行操作都須由 "晶片驅動–全台半導體資源共享平台" 預約(請見下方相關連結)