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半導體中心-中文

設備使用收費標準

重點設備使用收費標準

 

Ø 學術單位

Ÿ  自行操作:依下表學術單位訂價收費。(臺大校內使用者提供額外八折優惠)

Ÿ  委託代工:依下表學術單位訂價收費,並另收人員操作費: 500/半小時(臺大校內委託者提供額外八折優惠)

 §材料費無額外優惠

 

Ø 營利單位

Ÿ  自行操作:依下表營利單位訂價收費。

Ÿ  委託代工:依下表營利單位訂價收費,並另收人員操作費: 1,500/半小時

📘 黃光微影 

設備名稱

學術單位

營利單位

備註

電子束微影系統

1,080元/半小時

5,400元/半小時

 

步進式曝光系統

待定

待定

 

📘 薄膜沉積

設備名稱

學術單位

營利單位

備註

電漿輔助原子層沉積系統

300/半小時

1,500/半小時

另依材料加計

TMA: 5/cycle

TDMAHf: 5/cycle

加熱式原子層沉積系統

200/半小時

1,000元/半小時

另依材料加計

TMA: 5/cycle

TDMAHf: 5/cycle

感應耦合電漿化學氣相沉積系統

390/半小時

1,950元/半小時

 

超高真空濺鍍系統

500/半小時

2,500/半小時

 

超高真空電子束蒸鍍系統

550/半小時

2,750/半小時

貴金屬材料費另計

📘 乾式蝕刻

設備名稱

學術單位

營利單位

備註

感應耦合電漿蝕刻系統

640/半小時

3,200/半小時

 

📘 量測分析  

設備名稱

學術單位

營利單位

備註

半導體參數分析儀/真空探針台系統

110/半小時

550/半小時