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半導體中心-中文

訓練暨檢定收費標準

重點設備訓練暨檢定收費標準

Ø 課程注意事項:

Ÿ  下表為半導體製程及系統研究中心每月排定課程之費用 

Ÿ  加開課程費用為原價之2 

Ÿ  課程人數需符合最低開課人數。

 

📘 黃光微影 

設備名稱

學術單位

營利單位

開課人數

訓練

檢定

訓練

檢定

電子束微影系統

1,500

*練習: 1,500

1,500

3,000

*練習: 3,000

3,000

3-6

步進式曝光系統

1,500

*練習: 1,500

1,500

3,000

*練習: 3,000

3,000

3-6

📘 薄膜沉積

設備名稱

學術單位

營利單位

開課人數

訓練

檢定

訓練

檢定

電漿輔助原子層沉積系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

加熱式原子層沉積系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

感應耦合電漿化學氣相沉積系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

超高真空濺鍍系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

超高真空電子束蒸鍍系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

📘 乾式蝕刻

設備名稱

學術單位

營利單位

開課人數

訓練

檢定

訓練

檢定

感應耦合電漿蝕刻系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6

📘 量測分析  

設備名稱

學術單位

營利單位

開課人數

訓練

檢定

訓練

檢定

半導體元件參數量測真空探針台系統

1,500

1,500

3,000

3,000

3-6