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中心公告

電子束微影系統 (EBL) 訓練暨檢定課程報名調整及課程說明公告
  • 發布單位:半導體製程及系統研究中心

電子束微影系統(EBL)訓練暨檢定課程報名調整及課程說明公告

 

本中心電子束微影系統(Electron Beam Lithography, EBL)訓練暨檢定課程已於今年9月正式開課,為提升訓練課程之完整性、使用者操作能力及後續檢定品質,並使報名、資格審查及課程安排更加順暢,自10月起將調整EBL訓練暨檢定課程之報名方式及課程安排,有意參加EBL訓練暨檢定課程之使用者,請於報名前詳閱以下課程說明及相關規定

 

一、報名資格及資格審查

Ÿ  報名EBL訓練課程時,須於報名系統上傳「臺大環安衛C級輻射防護訓練證書」,供本中心進行資格查核。

Ÿ  未完成證書上傳或資格審查未通過者,恕不受理課程報名。

Ÿ  為確保課程安排及參訓資格,本中心不接受先報名後補交證書之方式,請確認已取得相關證書後,再進行課程報名。

Ÿ  若證書內容、資格或其他報名資料有疑義,本中心得要求參訓者補充相關文件或進一步確認。

 

二、課程架構

EBL訓練暨檢定課程共分為4堂課程,採「3+1套裝課程」方式辦理:

Ÿ  1堂:EBL訓練課程 (機台介紹、校正、樣品置放與進片操作)

Ÿ  2堂:EBL訓練課程 (資料轉檔、曝寫設定、對位操作)

Ÿ  3堂:實機操作訓練課程

Ÿ  4堂:EBL檢定課程

 

三、採「3+1」套裝課程報名

1.    為簡化報名流程並確保使用者能完整接受訓練,自10月起EBL訓練暨檢定課程改採「3+1套裝課程」方式報名。

2.    參訓者報名時僅需選擇一項 EBL 套裝課程,即完成 3 堂訓練課程+1 堂檢定課程,共 4 堂課程之報名,課程費用亦以 4 堂課程一次收費。

3.    本中心將依報名人數及設備排程統一安排各堂課程之上課時間。訓練課程固定安排於每週三下午2:00開始,檢定課程則於每週三下午1:30開始,並依參訓人數及實際情況分批進行檢定,實際課程時間及檢定安排仍以本中心通知為準。

 

四、訓練及檢定人數

為維持實機操作訓練品質、確保每位參訓者均有充分的設備操作練習時間,每梯次訓練暨檢定課程原則上控制於35

 

五、參訓及檢定規定

1.    參訓者須依規定完成全部3堂訓練課程後,始得參加第4堂檢定課程。

2.    未完成全部訓練課程者,不得直接參加檢定。

3.    如無法參加原訂訓練課程,致當月無法完成訓練者,當月不得參加檢定,須於次月或後續梯次完成缺席課程之補課,並於完成全部訓練課程後始得參加檢定。

4.    本中心得依設備狀況、課程需求及使用者實際操作情形,調整訓練或檢定之內容與安排。

 

六、報名流程

EBL訓練暨檢定課程報名流程如下:

取得C級輻射防護訓練證書 報名EBL3+1套裝課程」資格審查完成3堂訓練參加檢定通過檢定依規定取得自主操作資格

 

七、其他注意事項

1.        EBL設備屬高階精密設備,使用者於訓練期間應確實遵守設備操作、安全及實驗室管理規範。

2.        訓練課程及檢定均需依本中心安排之時間參加,請參訓者於報名前確認個人時間是否能配合完整課程。

3.        若設備狀況或其他因素造成課程無法依原訂時程進行,本中心將另行通知相關參訓者。

4.        本中心保留課程內容、開課時間、訓練方式、檢定方式、檢定標準及相關規定調整之權利,實際課程安排以本中心最新公告為準。

 

敬請有意參加EBL訓練暨檢定課程之使用者,於報名前詳閱上述說明,並依規定完成資格文件及報名程序,謝謝配合。