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半導體中心-中文

中心公告

電子束微影系統 (EBL) 訓練暨檢定課程報名須知
  • 發布單位:半導體製程及系統研究中心

電子束微影系統 (EBL) 訓練暨檢定課程報名須知

 

本中心電子束微影系統 (EBL) 訓練暨檢定課程預計於今年9月正式開課,凡有自行操作設備需求的使用者,歡迎報名參加,課程報名預計於8月中旬開放,為利後續報名、資格審查及課程安排,請有意參訓者於報名前詳閱以下課程說明與相關規定。

 

一、報名資格

因電子束微影系統屬於可發生游離輻射之設備,依相關安全管理規範,所有欲自行操作設備的使用者,須先完成輻射防護相關訓練。故報名 EBL 訓練課程時,請提供 C1 輻射防護訓練證書供資格查核,未完成證書繳交或資格審核者,恕不受理課程報名。

 

注意事項:

       C1 輻射防護訓練課程由臺大環安衛中心辦理。 (https://esh.ntu.edu.tw/#/)

       參訓者應於報名 EBL 課程前完成相關訓練並取得證書。

       報名時須檢附有效之證書電子檔,以利資格審核作業。

 

二、課程內容

EBL訓練課程共分為 3 堂課程,包含 2 堂訓練課程及1堂實機操作練習課程,使用者須依規定完成所有課程,並參與實機操作練習。

 

三、檢定規定

檢定內容涵蓋上述3堂課程之教學項目,通過檢定者,方可取得本中心EBL 設備之自行操作資格。未通過檢定者,可視其實際情況再報名訓練或練習課程,完成檢定且合格後,始得申請操作權限。

 

本中心保留課程內容、開課時間及檢定方式調整之權利。